研磨スラリーは、特にセラミックス、タンタル酸リチウム (LiTaO3)、ニオブ酸リチウム (LiNbO3)、ガラス フォトマスク、フェライト セラミックス、Ni-P などの電子基板の研磨用に開発されたコロイダル シリカ スラリーです。ディスク、クリスタル、PZTセラミックス、チタン酸バリウムセラミックス、ベアシリコン、アルミナセラミックス、CaF2、ベアシリコンウェーハリワーク、SiCセラミックス、サファイア、電子基板、セラミックス、クリスタル。粒子の均一性と分散性に優れ、高い除去率とダメージのない研磨を実現します。
ウェーハおよび半導体研磨スラリーは、特にセラミックス、およびタンタル酸リチウム (LiTaO3)、ニオブ酸リチウム (LiNbO3)、ガラス フォトマスク、フェライト セラミックス、Ni-P ディスク、クリスタル、PZT セラミックスなどの電子基板を研磨するために開発されたコロイダル シリカ スラリーです。 、チタン酸バリウムセラミックス、ベアシリコン、アルミナセラミックス、CaF2、ベアシリコンウェーハリワーク、SiCセラミックス、サファイア、電子基板、セラミックス、クリスタル。粒子の均一性と分散性に優れ、高い除去率とダメージのない研磨を実現します。
アルミ、ステンレス、チタンなどあらゆる金属を鏡面に仕上げる研磨剤です。
携帯電話のガラス、精密レンズ、光学レンズ、液晶画面などの高速研磨に使用される酸化セリウム研磨粉です。
ダイヤモンドスラリーは、サファイア、シリコンウエハー、セラミックス、各種金属などの粗研削、微研削に広く使用されています。
ダイヤモンドスラリーは、サファイア、シリコンウエハー、セラミックスなどの粗研削、微研削に広く使用されています。